Оказывается, используя современные технологии микрочипов и микропроцессоров, возможно создавать устройства, которые в три раза миниатюрнее текущих чипов. Ранее считалось, что на современном оборудовании технически невозможно изготовлять микросхемы с проектной нормой менее 32-нм, однако исследователи компании IBM создали и таким опровергли устоявшееся предположение. Для создания подобной структуры использовалась "глубокая" ультрафиолетовая литография – технология, позволяющая "рисовать" будущие элементы схемы на кремниевой или пластине.
сайт знакомств odnoklassniki лавпланет www odnoklassniki портал знакомств лавпланет | знакомств лавпленет одноклассники ru лавпленет мальчики течение десятилетий инженеры использовали новые технологии производства микроэлектронных компонентов, позволяющих увеличить количество транзисторов на единице площади кремниевой пластины, таким увеличивая функциональность и производительность чипов. Достижение сотрудников IBM, а
именно – использование нового литографического процесса, увеличить на несколько лет представленный путь производства микроэлектронных схем. Источник: physorg.com
Читайте также:
